高純?yōu)R射靶材產(chǎn)業(yè)在中國市場起步較晚，主要高純?yōu)R射靶材生產(chǎn)企業(yè)均由國有資本和少數(shù)民營資本所投資。受到技術(shù)、資金和人才的限制，中國專業(yè)從事高純?yōu)R射靶材的生產(chǎn)廠商數(shù)量仍然偏少，企業(yè)規(guī)模和技術(shù)水平參差不齊，多數(shù)中國廠商還處于企業(yè)規(guī)模較小、技術(shù)水平偏低、產(chǎn)業(yè)布局分散的狀態(tài)，市場尚處于開拓初期，主要集中在低端產(chǎn)品領域進行競爭。
全球范圍內(nèi)以霍尼韋爾、普萊克斯、愛發(fā)科等資金實力雄厚、技術(shù)水平領先、產(chǎn)業(yè)經(jīng)驗豐富的跨國公司居于全球高純?yōu)R射靶材行業(yè)的領導地位，屬于濺射靶材的傳統(tǒng)強勢企業(yè)，憑借其強大的技術(shù)研發(fā)實力和市場影響力牢牢占據(jù)全球濺射靶材市場的絕大部分市場份額，主導著全球濺射靶材產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，推動行業(yè)技術(shù)的進步。
高純?yōu)R射靶材產(chǎn)業(yè)以美國、日本為代表的半導體廠商需要加強對上游原材料的創(chuàng)新力度，從而最大限度地保證半導體產(chǎn)品的技術(shù)先進性，因此，美國、日本的半導體工業(yè)相繼催生了一批高純?yōu)R射靶材生產(chǎn)廠商，并于當前居于全球市場的主導地位，在一定程度上，全球半導體工業(yè)的區(qū)域集聚性造就了高純?yōu)R射靶材生產(chǎn)企業(yè)的高度聚集。
中國高純?yōu)R射靶材市場經(jīng)過數(shù)年的科技攻關(guān)和產(chǎn)業(yè)化應用，目前，中國高純?yōu)R射靶材生產(chǎn)企業(yè)已經(jīng)逐漸突破關(guān)鍵技術(shù)門檻，擁有了部分產(chǎn)品的規(guī)模化生產(chǎn)能力，整體實力不斷增強，形成了以本公司、有研新材等為代表的專業(yè)從事高純?yōu)R射靶材的生產(chǎn)商，正在經(jīng)歷高速發(fā)展時期，上升勢頭較快，打破了濺射靶材核心技術(shù)由國外壟斷。并且在半導體芯片、液晶顯示器和太陽能電池等市場開展與國際巨頭開始競爭，依靠產(chǎn)業(yè)政策導向、產(chǎn)品價格優(yōu)勢已經(jīng)在中國市場占有一定的市場份額，并逐步在個別產(chǎn)品或領域擠占國際廠商的市場空間。
另外高純?yōu)R射靶材是伴隨著半導體工業(yè)的發(fā)展而興起的，屬于典型的技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè)，產(chǎn)品術(shù)含量高，研發(fā)生產(chǎn)設備專用性強。隨著中國半導體、液晶顯示器和太陽能電池等工業(yè)技術(shù)創(chuàng)新的不斷深化，中國電子行業(yè)多濺射靶材不段提升，這更加促進中國濺射靶材的快速發(fā)展。
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